์ ์ฒด ๊ธ (64) ์ธ๋ค์ผํ ๋ฆฌ์คํธํ [21.04.28] [๋ฐฐํฐ๋ฆฌ ๋ฐ์ด 2021] LG์์ "์ฐจ์ธ๋ '๋ฆฌํฌํฉ·์ ๊ณ ์ฒด ๋ฐฐํฐ๋ฆฌ' 2025๋ ๋ถํฐ ์ถ๊ฒฉ" ๊ฒฝ๋ํ ๊ฐ์ ๋ฆฌํฌํฉ, ๋๋ก ์ ์ ํฉ ๋ฌด๊ฒ·๊ฐ๊ฒฉ ๊ฒฝ์๋ ฅ '์ ๊ธฐ์ฐจ'๋ ๊ณ ๋ ค ์ ๊ณ ์ฒด, 2025๋ ~2027๋ ์์ฉํ ๋ฐํ ์ํ ์ค๊ณ ์๋์ง ๋ฐ๋ ๋์ LG์๋์ง์๋ฃจ์ ์ด ์ค๋ 2025๋ ๊ป '๋ฆฌํฌํฉ ๋ฐฐํฐ๋ฆฌ' '์ ๊ณ ์ฒด ๋ฐฐํฐ๋ฆฌ'๋ฅผ ์์ฉํํ๋ค. ๋ฆฌํฌํฉ ๋ฐ ์ ๊ณ ์ฒด ๋ฐฐํฐ๋ฆฌ๋ ์์ฅ ์ฃผ๋ ฅ์ธ ๋ฆฌํฌ์ด์จ ๋ฐฐํฐ๋ฆฌ๋ฅผ ๋์ฒดํ ์ฐจ์ธ๋ ์ ํ์ผ๋ก ๊ผฝํ๋ค. LG๊ฐ ์ฐจ์ธ๋ ๋ฐฐํฐ๋ฆฌ ๊ฐ๋ฐ ๋ก๋๋งต๊ณผ ์์ฉํ ๊ณํ์ ๊ตฌ์ฒด์ ์ผ๋ก ๊ณต๊ฐํ ๊ฒ์ ์ด๋ฒ์ด ์ฒ์์ด๋ค. ์ต์น๋ LG์๋์ง์๋ฃจ์ ์๋์ฐจ์ ์ง๊ฐ๋ฐ์ผํฐ์ฅ์ 28์ผ ์ ์์ ๋ฌธ์ฌ ์ฃผ์ต๋ก ์ด๋ฆฐ '๋ฐฐํฐ๋ฆฌ ๋ฐ์ด 2021' ๊ธฐ์กฐ์ฐ์ค์์ 2025๋ ๋ถํฐ ๋ฆฌํฌํฉ ๋ฐฐํฐ๋ฆฌ์ ์ ๊ณ ์ฒด ๋ฐฐํฐ๋ฆฌ๋ฅผ ์์ฉํํ ๊ณํ์ด๋ผ๊ณ ๋ฐํ๋ค. ๋ฆฌํฌํฉ ๋ฐฐํฐ๋ฆฌ๋ 2025๋ , ์ ๊ณ ์ฒด ๋ฐฐํฐ๋ฆฌ๋ 2025๋ ๋ถํฐ 2027๋ ๊น์ง๋ฅผ ๊ฐ๊ฐ ์์ฉํ ๋ชฉํ ์์ ์ผ๋ก ์ ์ํ๋ค. ๋ฆฌํฌ.. [21.04.17] ๋ฏธ๋ ์๋์ฐจ ํต์ฌ์ ‘๋์คํ๋ ์ด’… 50์ธ์น ๋ชจ๋ํฐ ๋ค์ด๊ฐ๋ค ์์จ์ฃผํ์๋๋ก ํ ๊ฑธ์์ฉ ๋ค๊ฐ๊ฐ๋ฉด์ ์๋์ฐจ ๋ด๋ถ ๋์์ธ ๋ณํ๊ฐ ๋๊ธธ์ ๋๋ค. ์๋์ฐจ ๊ตฌ์กฐ๋ฅผ ๋จ์ํํ๋ ๋์ ํ๋ คํจ์ ๋์คํ๋ ์ด๋ก ์ถ๊ตฌํ๊ณ ์์ด์๋ค. ์๋์ฐจ ์์์ ์ด์ ์์ ์ ์ ๋ฌผ์ด๋ ๋์คํ๋ ์ด๊ฐ ํ์น์ ๋ชจ๋๋ฅผ ์ํ ๊ฒ์ผ๋ก ์งํํ๊ณ ์๋ค. ๋ค์ํ ์ฝํ ์ธ ๋ฅผ ํํํ๋ ๊ฒ์ ๋์ด ์์ ๊ณผ ํธ์๋ฅผ ๋์ด๋ ํต์ฌ๊ธฐ์ ์ ๊ตฌํํ๊ธฐ ์ํ ์๋จ์ผ๋ก๊น์ง ์ฃผ๋ชฉ๋ฐ๋ ์ํฉ. ๋ฌ๋ผ์ง ์๋์ฐจ ๋์คํ๋ ์ด์ ํจ๊ป ๊ด๋ จ๋ ์ฒจ๋จ ๊ธฐ์ ์ ํ์ฃผ์๋ฅผ ์ดํด๋ดค๋ค. 50์ธ์น ํ๋ฉด์ ๊ธฐ๋ณธ… ๋ฌ๋ผ์ง ์๋์ฐจ, ํต์ฌ์ ‘๋์คํ๋ ์ด’ ์ด์ ๋ ๋๊ณ ๋ทํ๋ฆญ์ค ๋ณธ๋ค ์ต๊ทผ ์ถ์๋๋ ์๋์ฐจ์ ๊ณตํต์ ์ ์ธํ ๋ฆฌ์ด ๋์์ธ์์ ๋์คํ๋ ์ด(ํ๋ฉด)๊ฐ ์ฐจ์งํ๋ ๋น์ค์ด ์ปค์ก๋ค๋ ์ ์ด๋ค. ๊ณผ๊ฑฐ์ ๋ด๋น๊ฒ์ด์ ์ด๋ ์ธํฌํ ์ธ๋จผํธ์์คํ ์ ๋ณดํ์์ฉ์ ๋ถ๊ณผํ์ง๋ง ํ์ฌ๋ ๊ทธ ๊ธฐ๋ฅ์ด ๋ค์ํด์ก๋ค. ์๋์ฐจ.. [21.04.15] '์ ์ ๋ ฅ·๊ณ ์ฃผ์ฌ์จ' OLED ์์ฅ ์ปค์ง๋ค… ์ผ์ฑ๋์คํ๋ ์ด, ์ ํ·์คํฌ ๋ฑ ๊ณต๊ธ ํ๋ 2023๋ LTPO ๋ฐฉ์ OLED ํจ๋์ด ๊ธฐ์กด LTPS ์์ง๋ฅผ ๋ฏ ์ ์ ๋ ฅ๊ณผ ๊ณ ์ฃผ์ฌ์จ ๊ตฌํ์ด ์ฅ์ ์ธ LTPO(์ ์จํด๋ฆฌ์ฅ์ฌ์ด๋) ๋ฐฉ์ OLED(์ ๊ธฐ๋ฐ๊ด๋ค์ด์ค๋) ํจ๋์ด ๋ ์ค๋ฅด๋ฉด์ ์ผ์ฑ๋์คํ๋ ์ด์ ํฅํ ์ฑ์ ํ์๋ ํ๋๋ถ์ด ์ผ์ก๋ค. ์ผ์ฑ๋์คํ๋ ์ด๋ LTPO ๋ฐฉ์์ ์์ฉํํ๋ฉฐ ์์๊ฐ๊ณ ์๋๋ฐ, ์ ํ '์์ดํฐ13' ๋ฑ ์ฃผ์ ์ ์กฐ์ฌ ํ๋ฆฌ๋ฏธ์ ๋ผ์ธ์ ์ ํจ๋ ๊ณต๊ธ์ ํ๋ํ๋ ๋ฑ ์ ๋ฆฌํ ๊ณ ์ง๋ฅผ ์ ํ๋ค๋ ๋ถ์์ด๋ค. 15์ผ ๊ด๋ จ ์ ๊ณ์ ๋ฐ๋ฅด๋ฉด ๋์คํ๋ ์ด ์์ฅ์กฐ์ฌ์ ์ฒด DSCC๋ ์ต๊ทผ ๋ณด๊ณ ์๋ฅผ ํตํด 2023๋ ์๋ LTPO OLED ํจ๋์ด LTPS(์ ์จํด๋ฆฌ์ค๋ฆฌ์ฝ) ํจ๋์ ์ ์น๊ณ ์ฃผ์ ๋์คํ๋ ์ด ๊ธฐ์ ์ด ๋ ๊ฒ์ผ๋ก ์ ๋งํ๋ค. ๋ก์ค ์ DSCC CEO๋ "์ ํ์ด ์ฌํด LTPO OLED ํจ๋์ ์ฑํํ๋ฉด์ ํฅํ 2๋ ๋์ ์ฃผ์ ๋์คํ๋ ์ด .. [21.04.06] ์ผ์ฑ vs ์ธํ vs TSMC ๊ฒฝ์๋ ฅ ๋น๊ตํด๋ณด๋...๊ฒฐ๊ตญ `์์จ`์์ ๊ฐ๋ฆฐ๋ค 778์ต๋ฌ๋ฌ. ์ธํ ์ง๋ํด ๋งค์ถ์ด๋ค. ์ผ์ฑ์ ์(570์ต๋ฌ๋ฌ, ๋ฐ๋์ฒด ๋ถ๋ฌธ), TSMC(442์ต๋ฌ๋ฌ)์ ๋น๊ตํ๋ฉด ์๋ฑํ ๋๋ค. ์ผ์์ ๋ถ์นจ์ด ์๊ธฐ๋ ํ์ง๋ง 30๋ ๋์ ์ธํ ์ ๋ฐ๋์ฒด ์ ๊ณ ๋ถ๋์ 1์์๋ค. ๊ทธ๋ฐ ์ธํ ์ด ์ ํ์ด๋๋ฆฌ ์์ฅ์ ๋ฐ์ด๋ค์์๊น. ์ธํ ์ ๋ฐ๋์ฒด ์์ฅ ์ ๋ฐ์ ๊ฑธ์ณ ์ํฅ๋ ฅ์ด ์ฝํด์ง๊ณ ์๊ธฐ ๋๋ฌธ์ด๋ค. ๋น์ฅ ๋งค์ถ์ ๋์ง๋ง ๋ถ์ผ๋ณ๋ก ๋ฐ์ ธ๋ณด๋ฉด ๊ฒฝ์๋ ฅ์ด ๋จ์ด์ง๊ณ ์๋ค. ๋ชจ๋ฐ์ผ ๋ถ์ผ์์๋ ํ์ปด, ARM์ด ์์ฅ์ ์ฅ์ ํ ์ง ์ค๋๋ค. ํ๋ฌผ๋ฉฐ PC ์์ฅ์์๋ AMD๋ ์๋น๋์์ ๋ฐ๋ฆฐ๋ค. ์ ํ, ๋ง์ดํฌ๋ก์ํํธ(MS), ์๋ง์กด ๋ฑ ๋ํ IT ๊ธฐ์ ์ด ์ง์ ๋ฐ๋์ฒด ์ค๊ณ์ ๋์ฐ๋ค๋ ์ ๋ ๋ฌด์ํ ์ ์๋ ๋๋ชฉ์ด๋ค. ๋ ์ด์ ๋ํ IT ๊ธฐ์ ๋ค์ ์ธํ ์นฉ์ ์ฐ์ง ์๋๋ค. ์ ํ๋ง ํด๋ ๋งฅ๋ถ์ ํ์ฌํ CPU๋ก ์ธํ CPU.. [21.04.06] ่ป๋ฐ๋์ฒด ๋๋์ SKํ์ด๋์ค, ๋ณด์ฌ์ ๊ณต๊ธ ํ์ ๊ธ๋ก๋ฒ 1์ ์๋์ฐจ ๋ถํ์ ์ฒด ๋ฉ๋ชจ๋ฆฌ 10๋ ์ด์ ๊ณต๊ธ ํ์ ๊ณ์ฝ์ฒด๊ฒฐ๋ ์ถ๊ฐ์์ฃผ ๊ฐ๋ฅ์ฑ ์์จ์ฐจ ๋ฐ๋์ฒด ์์ ํญ์ฆ SK, ่ป๋ฉ๋ชจ๋ฆฌ ์ ๋ดํ ํ๋ SKํ์ด๋์ค๊ฐ ๊ธ๋ก๋ฒ 1์ ์๋์ฐจ ๋ถํ์ ์ฒด์ธ ๋ณด์ฌ์ ๋ฉ๋ชจ๋ฆฌ ๋ฐ๋์ฒด ๊ณต๊ธ์ ์ํ ํ์์ ๋์ฐ๋ค. ๊ณ์ฝ ์ฒด๊ฒฐ์ด ์ฑ์ฌ๋๋ฉด ๋ณด์ฌ๋ฅผ ํตํด ์ ์์ ๊ธ๋ก๋ฒ ์์ฑ์ฐจ์ ์ฒด์ ์ ํ์ ๊ณต๊ธํ ์ ์์ด ํ๊ธํจ๊ณผ๊ฐ ํด ๊ฒ์ผ๋ก ๊ธฐ๋๋๋ค. 6์ผ ์ ๊ณ์ ๋ฐ๋ฅด๋ฉด SKํ์ด๋์ค๋ ๋ ์ผ์ ์๋์ฐจ ๋ถํ์ ์ฒด ๋ณด์ฌ์ ์ฐจ๋์ฉ ๋ฉ๋ชจ๋ฆฌ ๋ฐ๋์ฒด ๊ณต๊ธ์ ์ํ ํ์์ ์งํํ๊ณ ์๋ค. ๊ณ์ฝ ์กฐ๊ฑด์ผ๋ก๋ 10๋ ์ด์์ ์ฅ๊ธฐ ๊ณต๊ธ์ ๋ ผ์ํ๊ณ ์๋ ๊ฒ์ผ๋ก ์๋ ค์ก๋ค. ์ด๋ฒ ํ์์ด ๊ฒฐ์ค์ ๋งบ์ผ๋ฉด SKํ์ด๋์ค๊ฐ ์ฐจ๋์ฉ ๋ฉ๋ชจ๋ฆฌ ๋ฐ๋์ฒด ๋ถ์ผ์์ ์ฒด๊ฒฐํ ์ฒซ ์ฅ๊ธฐ๊ณ์ฝ์ด ๋๋ค. ์ ๊ณ์์ ์๋์ฐจ ๋ถํ ๋ถ์ผ 1์ ์ ์ฒด์ธ ๋ณด์ฌ์์ ๊ณ์ฝ์ ํตํด ์ถ๊ฐ .. [Etch ๊ณต์ ์ฌํ 5] Etch ์ฅ๋น, ๋ถ๋ ์ฌ๋ก โ Etch ์ฅ์น์ ๊ตฌ์ฑ ์์ * Pump - Dry Pump (QDP) : ๋จผ์ ์ ๋นํ ์ง๊ณต (sub Fab) - TMP (Turbo Molecular Pump) : ๊ณ ์ง๊ณต - Scrubber : ๋ฐ๋์ฒด ๊ณต์ ์์ ๋ฐ์๋ ์๋ฅ ์ ํด gas๋ฅผ ๋ฌดํด gas๋ก ๋ณํ ๋ฐฐ์ถํ๋ ์ฅ์น * RF Generator * Chiller : ๋ฐ์ ์ด ๋๊ฐ์์ผ ์๊ฐ์ ๊ท ์ผ๋ ๋ฐ Damage ๊ฐ์ ์ํค๋ ๊ธฐ๋ฅ * ESC (Electro Static chuck) : ์ ์ ๊ธฐ์ ํ์ ์ด์ฉํ์ฌ W/F ์ก์์ฃผ๋ ์ญํ * Process Chamber * Gas Box : Gas ์ ๋ ์กฐ์ by MFC * Main Controller * ์ง๊ณต ; ์ผ์ ๊ณต๊ฐ๋ด์ ๋ถ์๋ฅผ ๋๊ธฐ์ ์ดํ๋ก ์ ๊ฑฐํ ์ํ (๋ค๋ฅธ ๊ธฐ์ฒด๋ค์ด ์ ๊ฑฐ๋ ๊ณต๊ฐ) - ๋ถ์๋ฌผ๊ณผ ๊ธฐ.. [Etch ๊ณต์ ์ฌํ 4] Dry Etch โ Dry Etch Mechanism - ๋ณดํต ์๊ทน ์ชฝ์ ์จ์ดํผ๋ฅผ ๋๋ค. - ๋ฌผ๋ฆฌ์ ์๊ฐ : +์ด์จ (Sheath ๋ถ๋ถ์์ ๊ฐ์๋๋ฉด์ ์ถฉ๋) => ๋น๋ฑ๋ฐฉ์ฑ(์ด๋ฐฉ์ฑ) ์๊ฐ - ํํ์ ์๊ฐ : ๋ผ๋์นผ (๋ฐ๋ง ํ๋ฉด๊ณผ ํ๋ฉด ๋ฐ์) => ๋ฑ๋ฐฉ์ฑ ์๊ฐ => ์ ์ ํ ํผํฉ์ ํตํด ์๊ฐ์ ๋ฐฉ์์ฑ์ ์์ด ๋์ ์์ค์ ์์ ๋(Control์ด ์ฌ์)๋ฅผ ๊ฐ์ง. - ๋ฉ์ปค๋์ฆ ex) SiO2 Etch 1) ์์ ๋ฐ ๋ถ์์ ์ฌ๊ธฐ, ํด๋ฆฌ, ์ด์จํ CHF3 -> H, CF3, e 2) ํก์ฐฉ : ํ๋ฆ ํ๋ฉด์์ ํก์ฐฉ 3) ๋ฐ์ : ํ๋ฆ๊ณผ ์ด์จ์ ์ํ ํด๋ฆฌ์ ๊ฒฐํฉ์ผ๋ก ๋ฐ์ ์์ฑ๋ฌผ์ ํ์ฑ 4) ํ์ฐฉ : ๋ฐ์ ์์ฑ๋ฌผ์ ํ์ฐฉ [๊ฑด์ ์๊ฐ ์๋ฆฌ] 1) ํํ์ ๊ฒฐํฉ์ ๊ด์ฌํ๋ ๊ฐ์ค๋ฅผ ์ฑ๋ฒ์ ์ ์ , ์ธ๋ถ ๊ต๋ฅ RF ์ ์์ผ๋ก ํ๋ผ์ฆ๋ง ๋ฐ์ ์ ๋ฐ 2) ํ.. [Etch ๊ณต์ ์ฌํ 3] ํ๋ผ์ฆ๋ง ์ข ๋ฅ์ ์์ฉ(Feat.Dry Etch) โ ํ๋ผ์ฆ๋ง ์ข ๋ฅ์ ์์ฉ [ํ๋ผ์ฆ๋ง ๋ฐ์ ๋ฐฉ์์ ๋ฐ๋ฅธ ๋ถ๋ฅ] 1) DC ํ๋ผ์ฆ๋ง : ๋ ๊ฐ์ ํํ ํ ์ ๊ทน ์ฌ์ด์์ ์์ฑ - Anode์ Cathode๊ฐ ์๊ณ ๊ทธ ์ฌ์ด์ ๊ฐ์ค๊ฐ ์์ด์ ์ ๊ทน ์ฌ์ด์ ๊ฐํด์ง๋ ์ ์์ผ๋ก ๋ฐ์๋๋ ํ๋ผ์ฆ๋ง - Glow Discharge(๋ฐ๊ด ๋ฐฉ์ ) : ์๊ทน(Cathode) ์ชฝ Sheath์๋ง ๋ํ๋จ. - ํ๋ผ์ฆ๋ง๊ฐ Sheath ์์ญ์์๋ ์ ๊ธฐ์ ์ผ๋ก ์์ฑ์ด๋ฏ๋ก Cathode๋ ์๊ทน์ ์ญํ . - Sheath Voltage = ์๊ทน ๊ทผ์ฒ ๊ฐํ ์ ์์ผ๋ก ์ด์จ์ด ๋๋ ค์ค๋ฉด์ ํญ๊ฒฉ, ์๊ทน ๊ทผ์ฒ์์๋ X - Sputtering์ด๋ Etching ๊ณต์ ์ ์ฌ์ฉ - ํ ์ ๊ทน์ด ๋ถ๋์ฒด(์๊ฐ์ฌ๋ฃ, ์ฆ์ฐฉ ๊ธฐํ, Sputter Target)์ด๋ฉด ๋ถ๋์ฒด ์ ๊ทน์ด Charge-up ๋์ด ๋ฐฉ์ ์ ์์ ์์, ๋ฐฉ.. ์ด์ 1 2 3 4 5 ยทยทยท 8 ๋ค์