Micro loading effect (1) ์ธ๋ค์ผํ ๋ฆฌ์คํธํ [Etch ๊ณต์ ์ฌํ 1] Etch ๊ณต์ ์ ์ ์์ ์ฉ์ด Etch ๊ณต์ ์ ์ ์์ ์ฉ์ด 1. ์๊ฐ ๊ณต์ ์ ์ ์ ๊ฐ๊ด๋ง ํ์ ๊ณต์ ์ด ๋๋ ํ ๊ฐ๊ด๋ง ๋ฐ์ ๊ธธ๋ฌ์ง ์ฐํ๋ง ํน์ ๋ฐ๋ง๋ค์ ๊ณต์ ๋ชฉ์ ์ ๋ฐ๋ผ ๋ถ๋ถ์ /์ ์ฒด์ ์ผ๋ก ์ ๊ฑฐํ๋ ๊ธฐ์ - ๋ชฉ์ : ๋ ธ๊ด ๊ณต์ ์ ์ํด ๊ฐ๊ด์ ์ ํจํด์ด ํ์ฑ๋ ๋ค์, ๊ฐ๊ด์ ์ ํจํด์ ์ค์ ๋ฐ๋ง์ ์ฎ๊ธฐ๋ ๊ณผ์ - ๋ฐ๋์ฒด ์์ ์ ์์์์ ๋ถํ์ํ ๋ถ๋ถ์ ์ ๊ฑฐํ๋ ๊ณต์ · ๋ฐ๋์ฒด ๊ณต์ ์์ ์ง์ ๋๋ฅผ ๊ฒฐ์ ํ๋ ๊ฒ · ์ ํ์ ์๊ฐ๊ณผ ๋น์ ํ์ ์๊ฐ 2. ์๊ฐ ๊ด๋ จ ์ฉ์ด 1) Etch Bias(Skew) = Wb(Photo Dimension=ADI CD) - Wa(Etch Dimension=ACI CD) - Reticle CD - ADI CD : After Development Inspection - ACI CD : After Cleaning Inspe.. ์ด์ 1 ๋ค์