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[21.02.13] ์‚ผ์„ฑ, ๋˜ '๋Œ€๊ทœ๋ชจ ๊ณ„์•ฝ' ๋”ฐ๋‚ธ ๋“ฏ…"๋งค์ถœ 1์กฐ ์ด์ƒ ๊ธฐ๋Œ€" ํ€„์ปด ์ตœ์‹  5G ๋ชจ๋Ž€์นฉ 'X65' ์‚ผ์„ฑ ์ตœ์‹  4nm ๊ณต์ • ์ƒ์‚ฐ ์œ ๋ ฅ ์‹œ์ œํ’ˆ ์ƒ์‚ฐ, ์—ฐ๋‚ด ๋ณธ๊ฒฉ ์–‘์‚ฐ "์ˆ˜์œจ ๋†’์—ฌ์•ผ" ์ง€์ ๋„ ๋ฏธ๊ตญ ํ€„์ปด(ํŒน๋ฆฌ์Šค) : 2์›” 10์ผ ์ฐจ์„ธ๋Œ€ 5G (5์„ธ๋Œ€ ์ด๋™ํ†ต์‹ ) ๋ชจ๋Ž€์นฉ ์†”๋ฃจ์…˜ '์Šค๋ƒ…๋“œ๋ž˜๊ณค X65'์˜ ์ŠคํŽ™์„ ๊ณต๊ฐœ (5G ๋ชจ๋Ž€์นฉ์€ 5G ์Šค๋งˆํŠธํฐ ๋“ฑ์—์„œ ๋ฐ์ดํ„ฐ ์†ก์ˆ˜์‹ ์„ ๋‹ด๋‹นํ•˜๋Š” ๋ฐ˜๋„์ฒด) ํ€„์ปด์€ ๊ณต์žฅ์ด ์—†๋Š” ํŒน๋ฆฌ์Šค(๋ฐ˜๋„์ฒด ์„ค๊ณ„ ์ „๋ฌธ ์—…์ฒด) → ํŒŒ์šด๋“œ๋ฆฌ(๋ฐ˜๋„์ฒด ์ˆ˜ํƒ์ƒ์‚ฐ)์—…์ฒด์— ์นฉ ์ƒ์‚ฐ์„ ๋งก๊ธฐ๋Š”๋ฐ, ๋ฐ˜๋„์ฒด์—…๊ณ„์—์„  ํ€„์ปด X65 ์ƒ์‚ฐ์—…์ฒด๊ฐ€ ์‚ผ์„ฑ์ „์ž ํŒŒ์šด๋“œ๋ฆฌ์‚ฌ์—…๋ถ€๋กœ ์ •ํ•ด์กŒ๋‹จ ๋ถ„์„์ด ์šฐ์„ธํ•˜๋‹ค. ํ€„์ปด์˜ ์Šค๋งˆํŠธํฐ์šฉ AP ์ฃผ๋ ฅ์ œํ’ˆ '์Šค๋ƒ…๋“œ๋ž˜๊ณค 888'์— ์ด์–ด ๋˜ ํ•œ ๋ฒˆ ๋Œ€๊ทœ๋ชจ ์ˆ˜์ฃผ ๊ณ„์•ฝ์„ ๋”ฐ๋ƒˆ๋‹ค๋Š” ์–˜๊ธฐ๋‹ค. 1) ํ€„์ปด ํŒŒ์šด๋“œ๋ฆฌ ์ˆ˜์ฃผํ•˜๋ฉด 1์กฐ ์ด์ƒ ๋งค์ถœ ํ€„์ปด์˜ X65๋Š” ์ดˆ์ฐฝ๊ธฐ LTE(4์„ธ๋Œ€ ์ด๋™ํ†ต์‹ ) ..
[21.02.09] SKํ•˜์ด๋‹‰์Šค "EUV ๊ณต์ • ๋‚œ์ œ, ์ƒˆ๋กœ์šด ๋Œ€์•ˆ์œผ๋กœ ํ•ด๊ฒฐํ•ด ๋‚˜๊ฐˆ ๊ฒƒ" [EUV Challenges in DRAM]1) Scaling with integration- Lithography ์„ฑ๋ŠฅResolution -> 0.33NA ์ด์ƒPattern ์ •ํ™•๋„(Fidelity)Overlay Control 2) Productivity ์ƒ์‚ฐ์„ฑThroughput = Wafers/Hour 3) Defectivity ๊ฒฐํ•จ- Pattern Bridge ํ˜„์ƒ- Pattern Missing ํ˜„์ƒ- Particle on Mask โ—† SKํ•˜์ด๋‹‰์Šค : ์ฒจ๋‹จ ๊ทน์ž์™ธ์„ (EUV) ๊ณต์ • ๋‚œ์ œ๋ฅผ ํ•ด๊ฒฐํ•˜๊ธฐ ์œ„ํ•œ ๋‹ค์–‘ํ•œ ์†”๋ฃจ์…˜์„ ์ œ์‹œ1) ์ƒ์‚ฐ์„ฑ ๋ฌธ์ œ๋ฅผ ํ•ด๊ฒฐํ•  ์ˆ˜ ์žˆ๋Š” ์œ„์ƒ์ฐจ๋งˆ์Šคํฌ(PSM)2) EUV ๋งˆ์Šคํฌ ๋ฎ๊ฐœ ์—ญํ• ์„ ํ•˜๋Š” ํŽ ๋ฆฌํด3) ์ข์€ ํšŒ๋กœ๋ฅผ ๋ฐ˜๋“ฏํ•˜๊ณ  ๊ท ์ผํ•˜๊ฒŒ ์ฐ์–ด๋‚ผ ์ˆ˜ ์žˆ๋Š” ์ƒˆ๋กœ์šด ํฌํ† ๋ ˆ์ง€์ŠคํŠธ(PR) [EU..

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